在两年前，中美科技战日愈激烈，白宫在半导体设备上“卡脖子”，举国万马齐喑。
当年中国企业未来发展论坛上，北大名誉院长林毅夫公开演讲，引用ASML CEO的原话。
“如果不把光刻机卖给中国，大概三年以后中国就会自己掌握这个技术了。”
“只要中国掌握这个技术，中国的生产成本会比国际上便宜，那时候ASML可能就退出了世界光刻机市场。”
作为国内知名经济学家，林毅夫先生当然是从他所熟知的经济角度探讨中国的光刻机问题。
其实他的想法大体没错。中国产业发展的一贯规律都是：一旦让中国人掌握先进技术，就会立刻击垮国际上的垄断高价。
但三年之期里已经过去了两年，无数中国人期盼的场景仍未出现——中国的光刻机，到底怎么了？
首先，我们需要明确。
这个所谓三年就能取得突破的光刻机，中国与国际主流水平究竟差了多少？
两年的期待后，现实依旧残酷。
目前中国所攻关的DUV浸没式光刻机，是ASML在15年前用的技术。而在EUV光刻机上，我们几乎不存在任何技术经验、商业化经验，距高ASML差了3代技术，10年差距。
而作为中国半导体行业的对标企业——ASML，来自于荷兰，全球唯一一家有能力生产EUV光刻机的企业。
EUV光刻机被人们称之为“工业皇冠上的明珠”，一台重量达180吨，零件超过45万个的笨重机器，单价远胜波音飞机，可以卖到3∽4亿美元。
而想要运输一台EUV光刻机，则需要使用40多个恒温恒湿专用箱、专业防震气垫车，4架次的波音747货机。
之所以要如此小心翼翼，无它，光刻机的零件设计实在过于精细，不容得半点疏忽。
“精细”，也成为了中国光刻机研发最大的拦路虎。
“中国人原子弹都能造，凭什么不能造光刻机？”这是近几年部分国人所秉持的观点。
但原子弹所需器件的精密程度与光刻机不可同日而语，也就意味着问题规模的指数级增长。
原子弹可以靠举国之力，以“手工作坊”进行生产，不计成本、依靠人海战术控制质量，但造光刻机却大不相同。
光刻机作为工业化、大规模流程型产业，其产业链遍及全球：软件、电子、光学、测量、控制技术等等，漫长无际。
ASML，不只是一家ASML。
这并非一句哑谜，而是光刻机的真相。
比如，ASML的极紫外(EUV)理论基础来自于美国国家实验室最先进的光刻研究成果。
又比如，ASML的光刻机光学系统，来自于顶级的光学仪器公司——德国蔡司，为了培养蔡司的半导体技术，ASML甚至亲自下场花费了十数年。
据ASML高层估计，荷兰人只生产了EUV光刻机15%的零部件，剩下的85%，则来自于全球上千家供应商。
遗憾的是，在白宫的专利打压与技术封锁下，中国根本无处找寻这上千家优质供应商，闭门造车绝非易事。
三年之期将至，光刻机研发却愈发艰难。
面对这样的荆棘之路，中国人必须要做到两点。
第一，坚持。
对于中国光刻机的硏发，坚持是最重要的。如果在这个过程中，有各种原因影响了我们的坚持，最终的产出就会受到波及。
光刻机研发周期长又涉及全球供应链，导致很多中国企气自主研发时缺乏底气。这需要整个中国市场的积极反馈，实现大规模国产替代。
甚至，假设未来有一天重新放开禁令。
面对ASML们的冲击，如果中国企业能坚定不疑的继续购买国产光刻机，那么我们就可以说，中国的光刻机走在了最正确的道路上。
第二，耐心。
所谓三年之期，如今不过是图增笑柄。中国想要造光刻机，就必须像ASML那样从一砖一瓦做起。
不能急。不能学日本，连国产DUV光刻㬵都没有就匆忙去做EUV。
毕竟，EUV再高端，也仅占了全球光刻机市场的8%。剩下的92%，正静待中国的未来。
虽然当年ASML高层对于中国的估计过于乐观，但有一句话说得不错。
“中国的‘物理定律’和我们这儿的一样，你越给他们施加压力，他们越有可能加倍努力。”
请忘却3年之期吧。
中国人注定要再挺过更多的隆冬，来证明自己身上有一个不可战胜的夏天。
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